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在硅基底表面制備含氟碳基薄膜的方法技術(shù)資料下載

技術(shù)編號:3318393

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本發(fā)明涉及一種。背景技術(shù)類金剛石碳薄膜具有高硬度、低摩擦系數(shù)、良好的耐腐蝕性,被廣泛應(yīng)用于航空航天、輪船、公路運輸工具、刀具、醫(yī)療器械等方面。但是,DLC薄膜在潮濕氣氛下摩擦學(xué)性能較差,且由于自身內(nèi)應(yīng)力過大而限制自身膜厚。因此,通過摻F來提高抗磨減損能力,降低膜的表面能,以降低薄膜摩擦系數(shù)的濕度敏感性,同時也可改善其內(nèi)應(yīng)力。在沉積工藝方面,類金剛石碳薄膜通常都是通過濺射、電弧等技術(shù)在樣件表面沉積薄膜。但是.通過脈沖直流PECVD (等離子增強化學(xué)氣象沉積)...
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