技術(shù)編號：3326200
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明屬于磁控濺射鍍膜，特別是。 背景技術(shù)磁控濺射鍍膜是一種先進(jìn)的表面裝飾鍍膜技術(shù)，靶材做成陰極平面或圓柱磁控靶置于鍍膜室中，系統(tǒng)抽真空至le-2pa以下，通入工作氣體，在電壓(直流或脈沖)作用下產(chǎn)生真空輝光放電，實現(xiàn)均勻鍍膜。靶材利用率高，工作溫度低，可用于金屬或非金屬，如塑料、玻璃、陶瓷等工件鍍制鋁、銅、鉻、鎳、鈦、金、銀以及不銹鋼等薄膜，通入反應(yīng)氣體可鍍多種化合物膜，鍍膜層具有均勻、致密、附著力強等特點，廣泛用于家用電器、鐘表、工藝美術(shù)、 玩具、車燈...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。