技術(shù)編號(hào)：3332940
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及ー種磁控濺射靶材的材料，特別是ー種高Zr含量的Nb合金及其熔鑄制造方法。背景技術(shù)Zr含量較高的Nb合金主要用于磁控濺射靶材的生產(chǎn)和加工，作為磁控濺射靶材可以用于材料的氣相鍍膜。磁控濺射的基本原理是在被濺射的靶極(陰極)與陽(yáng)極之間加ー個(gè)正交磁場(chǎng)和電場(chǎng)，在高真空室中充入所需要的惰性氣體(通常為Ar氣)，永久磁鐵在革巴材料表面形成250 350高斯的磁場(chǎng)，同高壓電場(chǎng)組成正交電磁場(chǎng)。在電場(chǎng)的作用下，Ar氣電離成正離子和電子，靶上加有一定的負(fù)高壓，從靶極發(fā)...
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