技術(shù)編號：3342673
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種太陽能選擇性吸收膜及濺射法沉積鍍膜方法，特別是用磁控反應(yīng)濺射鋁靶制備太陽能選擇性吸收膜方法。太陽能的利用取決于被照射的物體表面的特性，現(xiàn)有的太陽能真空集熱器的真空管的性能直接與真空管內(nèi)吸收膜的光學(xué)特性有關(guān)，它要求膜層具有對太陽光譜范圍的吸收率要高，而對紅外發(fā)射率要低，這樣才能很好地利用太陽能?，F(xiàn)有的真空集熱管由兩根同心的玻璃管，其內(nèi)管表面鍍有一層太陽能選擇性吸收膜，兩管之間抽空封接而成。專利US4339484太陽集熱器是將玻璃管放在濺射雙靶(...
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