技術(shù)編號：3348047
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及鋁合金，特別是涉及CVD裝置、PVD裝置、離子注入裝 置、濺射裝置、干式蝕刻裝置等的半導(dǎo)體和液晶制造裝置的真空腔的構(gòu)件 和設(shè)于其內(nèi)部的構(gòu)件所使用的經(jīng)陽極氧化處理鋁合金。背景技術(shù)在CVD裝置、PVD裝置、離子注入裝置、濺射裝置、干式蝕刻裝置 等的半導(dǎo)體和液晶制造裝置的真空腔的內(nèi)部，由于含有卣素的腐蝕性氣體 作為反應(yīng)氣體、蝕刻氣體、清洗氣體被導(dǎo)入，因此要求其對于腐蝕性氣體 有耐腐蝕性(以下稱為耐氣體腐蝕性)。另外，在上述真空腔之中，因為 多使鹵系的等...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。