技術編號：3349289
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發(fā)明涉及一種合金涂層的制備方法，特別是。多弧離子鍍是一種設有多個可同時蒸發(fā)的陰極弧蒸發(fā)源的、獨特的物理氣相沉積技術，該技術具有沉積速率快、膜層組織致密、附著性強、均勻性好等優(yōu)點。目前采用多弧離子鍍技術制造合金涂層的主要困難是難以得到符合成分要求的合金涂層成分，即所制備的合金涂層與原要求的合金涂層的成分含量之間存在著明顯偏差，其絕對偏差(指所制備的合金涂層中某一元素的百分含量與原要求的合金涂層中該元素的百分含量之差)甚至達到10％以上，而相對偏差(某合金元...
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