技術(shù)編號(hào):3351341
提示:您尚未登錄,請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒(méi)有賬戶(hù)請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ,登陸完成后,請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種工業(yè)化生產(chǎn)髙硅硅鋼薄板的工藝,更特別地說(shuō),是指一種采用磁 控濺射連續(xù)雙面共沉積工藝、在低硅硅鋼的上、下同時(shí)濺射上硅材料并擴(kuò)散使之成為 髙硅硅鋼薄板的工業(yè)化生產(chǎn)系統(tǒng)。 背景技術(shù)磁控濺射原理帶電離子和電子在陰陽(yáng)極兩極間電場(chǎng)的作用下加速運(yùn)動(dòng)獲得足夠 高的能量并與氬氣分子發(fā)生碰撞,電離出大量的氬離子和電子。氬離子在電場(chǎng)的作用 下加速轟擊陰極靶材,濺射出大量的靶材原子沉積在基片上成膜。二次電子在飛向基 片的過(guò)程中受到磁場(chǎng)洛侖磁力的影響,被束縛在靠近靶面...
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