技術(shù)編號：3352120
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種磁控濺射鍍膜裝置，更具體地說是一種可用于采用真空磁控濺射的方法在基片上沉積單層膜、多層膜和復(fù)合膜，同時可用于對基片進行濺射清洗、加熱和施加偏壓的多功能磁控濺射鍍膜裝置。背景技術(shù)在真空條件下，利用氣相沉積技術(shù)在基片表面鍍制薄膜是獲得優(yōu)良力學(xué)性能、特殊物理/化學(xué)性能薄膜材料的重要途徑，是當(dāng)今材料科學(xué)、物理科學(xué)等領(lǐng)域的研究熱點。氣相沉積技術(shù)的核心問題在于利用所選定的沉積方法(如磁控濺射、脈沖激光沉積等)，在待鍍的基片表面獲得所需性能的薄膜材料。 磁...
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