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技術(shù)編號：3352560

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本發(fā)明涉及用于非常大面積基片的真空處理裝置，尤其是帶有平面偏差補(bǔ)償機(jī)構(gòu) 的PECVD處理室(相應(yīng)地為內(nèi)部反應(yīng)器)。背景技術(shù)本發(fā)明大體涉及大面積PECVD處理室并特別涉及這種自身再次封閉在第二環(huán)繞 真空室內(nèi)的室。此"盒中盒"(Plasma Box )現(xiàn)有技術(shù)已知，并在美國專利No. 4， 798， 739中 作了介紹。此"盒中盒"的主要優(yōu)點(diǎn)是可保持在外部氣密室內(nèi)比在內(nèi)部反應(yīng)器室內(nèi)更低的壓 力，使得控制氣流可保持從內(nèi)室到外室("差分泵送")。此"盒中盒"系統(tǒng)的...
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