技術(shù)編號(hào)：3353238
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及微電子，特別涉及一種真空鍍膜設(shè)備。 背景技術(shù)真空鍍膜是指在真空室內(nèi)，在一定的壓力、溫度和反應(yīng)物狀態(tài)等條件下，通過(guò)化 學(xué)、物理等方法將生成物沉積到目標(biāo)物上的技術(shù)。真空鍍膜的方法有很多種，比如真空蒸 鍍、化學(xué)氣相沉積、物理氣相沉積等。請(qǐng)參考圖1，圖1為現(xiàn)有技術(shù)中第一種典型的真空鍍膜設(shè)備的結(jié)構(gòu)示意圖。真空鍍膜設(shè)備包括進(jìn)氣閥門11、密閉的真空腔體12、壓力傳感器13、壓力控制閥 14、截止閥15、真空泵16以及管路等；其中，真空泵16主要用于抽出真空腔體...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。