技術編號：3354203
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本實用新型涉及一種真空濺鍍裝置，特別是涉及一種連續(xù)式真空濺鍍裝置。背景技術眾所皆知地，真空濺鍍技術是已廣泛應用在眾多產業(yè)領域中，舉凡半導體制造業(yè)、光電業(yè)、電子業(yè)......，而為了提高鍍膜產品的競爭力，降低設備與操作成本、縮短周期時間(cycle time)、提高產能效率、提升鍍膜品質與產品優(yōu)良率......等，則成為業(yè)界所追求的目標方向。因此，連續(xù)式(in-line)多腔體(multi-chambers)真空濺鍍設備，在具備 設備成本低、設置空間需求較小...
注意：該技術已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權人授權前，僅供技術研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術人員進行技術研發(fā)參考以及查看自身技術是否侵權，增加技術思路，做技術知識儲備，不適合論文引用。