技術(shù)編號(hào):3355440
提示:您尚未登錄,請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒(méi)有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ,登陸完成后,請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本實(shí)用新型涉及一種具有遮蔽框架的化學(xué)氣相沉積機(jī)臺(tái),特別涉及一種具有定位 板塊的遮蔽框架。背景技術(shù)請(qǐng)參照?qǐng)D1A,此圖顯示了現(xiàn)有技術(shù)中使用化學(xué)氣相沉積法(CVD)于一基板10表面 沉積膜層的情形。其中,為了避免化學(xué)氣相沉積制程當(dāng)中所進(jìn)行的電漿處理,在基板的邊緣 IOa造成電弧現(xiàn)象,因此會(huì)在基板的四周設(shè)置遮蔽框架(Shadow Frame) 12。請(qǐng)參照?qǐng)D1B,此圖顯示了對(duì)基板10進(jìn)行化學(xué)氣相沉積時(shí),相關(guān)設(shè)備的截面圖。一 般而言,基板10是放置于一承載臺(tái)(sta...
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