技術(shù)編號(hào):3362721
提示:您尚未登錄,請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ,登陸完成后,請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種鍍膜傘架,尤其涉及一種由平面載盤構(gòu)成的鍍膜傘架。 背景技術(shù)光學(xué)薄膜一般采用蒸鍍法(Evaporation Deposition)、離子助鍍法(Ion Assisteddeposition, IAD)(Ion Beam Sputtering Deposition, IB SD) ii 行鍍制。在膜層鍍制過程中,通常使用鍍膜傘架來承載待鍍?cè)?,待鍍?cè)胖糜阱兡慵苌?,待鍍表面朝向設(shè)置于鍍膜傘架下方的靶材,通過蒸發(fā)或離子轟擊等方式將靶材材料沖至鍍...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備,不適合論文引用。