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一種等離子體浸沒(méi)注入劑量的檢測(cè)裝置的制作方法技術(shù)資料下載

技術(shù)編號(hào):3363370

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本發(fā)明屬于等離子體,具體為一種等離子體浸沒(méi)注入設(shè)備中,標(biāo)定和測(cè) 試等離子體注入劑量的附屬裝置。背景技術(shù)等離子體浸沒(méi)注入技術(shù)為上世紀(jì)80年代產(chǎn)生的一種新型離子注入技術(shù),廣泛應(yīng) 用于材料表面改性和半導(dǎo)體材料制備等領(lǐng)域。等離子體浸沒(méi)注入設(shè)備改變了傳統(tǒng)離子束狀 注入的視線特性,受到了廣泛的應(yīng)用和發(fā)展。等離子體浸沒(méi)注入設(shè)備如附圖1所示,主要包 括為等離子體射頻源,真空腔體以及高壓電源三大部分。在離子注入時(shí),射頻源耦合腔內(nèi)氣 體電離產(chǎn)生等離子體,而加在靶臺(tái)上的負(fù)高壓電...
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