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技術(shù)編號(hào)：3366311

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本發(fā)明的實(shí)施方式主要涉及一種用于物理氣相沉積(PVD)的方法和設(shè)備，更尤其 涉及一種改進(jìn)的PVD靶及其操作方法。背景技術(shù)平板顯示器、太陽(yáng)能面板和半導(dǎo)體器件的制造依賴(lài)于在襯底上沉積金屬和非金屬 薄膜的方法。PVD為一種所述方法。PVD 一般在高真空腔室中執(zhí)行并通常包括磁控濺射工藝。通過(guò)將靶放置于襯底上 方，在靶和襯底之間導(dǎo)入諸如氬的氣體，并利用高電壓DC信號(hào)激發(fā)氣體以產(chǎn)生轟擊靶的離 子，執(zhí)行濺射。靶包括待在襯底上沉積為薄膜的材料。由于離子轟擊靶，靶原子離開(kāi)原...
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