技術(shù)編號(hào):3366785
提示:您尚未登錄,請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒(méi)有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ,登陸完成后,請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種。 背景技術(shù)真空鍍膜技術(shù)(PVD)是一種非常環(huán)保的成膜技術(shù)。以真空鍍膜的方式所形成的膜層具有高硬度、高防磨性的化學(xué)穩(wěn)定性、與基體結(jié)合牢固以及亮麗的金屬外觀等優(yōu)點(diǎn),因此真空鍍膜在鋁、鋁合金及不銹鋼等金屬基材表面裝飾性處理領(lǐng)域的應(yīng)用越來(lái)越廣。然而,由于鋁或鋁合金的標(biāo)準(zhǔn)電極電位很低,與PVD鍍層,如TiN層、TiN層或CrN 層的電位差較大,且PVD鍍層本身不可避免的會(huì)存在微小的孔隙,如針孔、裂紋,致使鋁或鋁合金基體易于發(fā)生微電池腐蝕。因此,直接于...
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