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濺射靶材的制作方法技術(shù)資料下載

技術(shù)編號(hào):3367850

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本發(fā)明涉及例如用于在基板上形成薄膜的濺射中所使用的濺射靶材。 背景技術(shù)近年,由于大型顯示面板的高精細(xì)化,因而要求TFT陣列配線的細(xì)微化。作為配線 材料,開(kāi)始采用電阻率比鋁(Al)低的銅(Cu)。今后,為了應(yīng)對(duì)4K XI (4000 X 2000像素級(jí)) 的更進(jìn)一步的高精細(xì)化、驅(qū)動(dòng)頻率數(shù)為120Hz或MOHz這樣的高速驅(qū)動(dòng)化,越發(fā)需要配線材 料的低電阻化,可預(yù)期從作為配線材料的主流的Al向Cu的變更在推進(jìn)??墒?,在基板上形成細(xì)微的Cu配線圖案時(shí),在通過(guò)使用靶...
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