技術(shù)編號：3370787
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本實用新型涉及到一種鍍膜緩沖裝置，尤其涉及到一種磁控鍍膜生產(chǎn)線用真空緩 沖裝置，屬于金屬鍍膜加工裝置領(lǐng)域。背景技術(shù)在現(xiàn)有的大面積鍍膜技術(shù)發(fā)展中，已由最初的真空蒸發(fā)鍍膜發(fā)展到現(xiàn)在的等離子 體濺射鍍膜，膜層也由最初的單層金屬膜發(fā)展到現(xiàn)在的含有金屬膜、反應(yīng)膜及陶瓷介質(zhì)保 護(hù)膜的復(fù)雜膜系，對鍍膜工藝氣氛的穩(wěn)定性要求越來越高，不允許在鍍膜基板進(jìn)出鍍膜室 時造成鍍膜氣氛的不穩(wěn)定，現(xiàn)有技術(shù)中，是在鍍膜區(qū)前后端設(shè)計兩個真空過渡室，主要根據(jù) 基片的最大規(guī)格設(shè)計，內(nèi)部無任何隔...
注意：該技術(shù)已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。