技術編號：3373382
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本實用新型涉 及磁控濺射薄膜制備裝置，尤其涉及用于單面雙層DVDR9光盤薄 膜制備的磁控濺射靶材裝置。背景技術在光盤薄膜制備時，先將濺鍍腔抽真空達到設定值，將盤片放入腔內(nèi)，真空腔 內(nèi)盤片會被抽真空至高真空10E-4mbar范圍，注入氬氣到濺鍍腔，這時濺鍍腔的真空度 降至IOE — 3mbar范圍，然后對靶材(陰極)和盤片(陽極)之間施以幾百伏特的直流 電壓，使氬氣在電場中被離子化，產(chǎn)生氬離子及自由電子；在電場的作用下，帶正電荷 的氬離子向陰極(靶材)加速，...
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