技術編號：3375340
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發(fā)明涉及一種玻璃鍍膜設備，具體是一種輥輪濺射污染低的真空磁控濺射鍍膜裝置O背景技術目前市場上用于大面積玻璃鍍膜的磁控濺射設備大部分都采用雙端式，有三室的、有五室的，通常鎖室同緩沖室之間通過狹縫閥進行分離，而濺射室(濺射區(qū))和過渡室之間是不用隔離的，這樣就導致濺射陰極濺射出的粒子通過玻璃傳送間隙和傳送輥輪下部的空隙濺射到旁邊過渡室的傳送輥輪上，造成輥輪“O”形圈(S卩外圈)的污染。玻璃到達過渡室時，輥輪會有加速的過程，從而會導致玻璃因“O”形圈被濺射而被劃...
注意：該技術已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權人授權前，僅供技術研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術人員進行技術研發(fā)參考以及查看自身技術是否侵權，增加技術思路，做技術知識儲備，不適合論文引用。