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技術(shù)編號：3375645

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本發(fā)明涉及半導(dǎo)體晶片的保護(hù)結(jié)構(gòu)、半導(dǎo)體晶片的保護(hù)方法以及所用的層壓保護(hù)片和半導(dǎo)體晶片的加工方法。特別涉及半導(dǎo)體晶片研磨至極薄時(shí)，其在保管、搬運(yùn)中所適宜使用的半導(dǎo)體晶片的保護(hù)結(jié)構(gòu)、半導(dǎo)體晶片的保護(hù)方法及所用的層壓保護(hù)片。另外，本發(fā)明還涉及運(yùn)用了上述半導(dǎo)體晶片保護(hù)方法的半導(dǎo)體晶片的加工方法。背景技術(shù) 近年來，人們希望IC卡不斷地普及并更加薄型化。因此，以往350μm左右厚度的半導(dǎo)體芯片有必要加工至厚度為50～100μm，甚至更薄。此外，為了提高生產(chǎn)效率，人們開...
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