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技術(shù)編號：3377242

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本發(fā)明涉及一種用于制造在光學(xué)薄膜和光學(xué)設(shè)備、光電子學(xué)用設(shè)備以及半導(dǎo)體設(shè)備等中使用的薄膜的，特別涉及一種通過改良等離子體發(fā)生單元和真空容器，來提高與薄膜發(fā)生化學(xué)反應(yīng)的活性物種的密度的薄膜形成裝置、及利用該薄膜形成裝置的薄膜形成方法。背景技術(shù) 以往，利用在真空容器內(nèi)形成為等離子體的反應(yīng)性氣體，在基板上進行薄膜的形成、形成后的薄膜的表面改性，以及蝕刻等等離子體處理。例如，公知有如下技術(shù)使用濺鍍技術(shù)，在基板上形成由金屬的不完全反應(yīng)物構(gòu)成的薄膜，使由該不完全反應(yīng)物構(gòu)...
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