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技術(shù)編號(hào)：3381211

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本實(shí)用新型屬于金屬表面鍍膜領(lǐng)域，尤其涉及一種磁控濺射鍍膜裝置。 背景技術(shù)磁控濺射的工作原理是被離化的Ar離子在電場(chǎng)作用下加速飛向陰極靶，并以高能量轟擊靶表面，使靶材發(fā)生濺射。在濺射粒子中，中性的靶原子或離子沉積在基片上形成薄膜。如圖1和圖2所示，磁控濺射靶101固定在腔體102壁上，靶材的濺射粒子105沉積在基片103上形成薄膜?；?03安裝在腔體102中心的旋轉(zhuǎn)架104上，每個(gè)基片103隨旋轉(zhuǎn)架104—起繞旋轉(zhuǎn)架104的軸線轉(zhuǎn)動(dòng)，在磁控濺射鍍膜過程中，...
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