技術(shù)編號：3381736
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本實用新型涉及一種平面靶裝置，尤其涉及一種鍍膜用平面靶裝置。 背景技術(shù)目前生產(chǎn)鍍膜玻璃的設(shè)備中大多采用平面濺射陰極靶材，其工作原理是將需鍍膜的玻璃送入真空鍍膜室內(nèi)，真空鍍膜室內(nèi)通入一定量的高純工藝氣體一如氧氣、氮氣或氬氣，在電磁場及游離電子的作用下工藝氣體形成帶正電的等離子體，等離子體在載有高負電壓的陰極的吸引下，在磁場的控制下，按照一定的軌跡和力度轟擊固定安裝在真空鍍膜室內(nèi)的平面陰極靶材上的鍍膜用材料，鍍膜材料被氣體分子碰撞出來，按照一定方向沉積在玻璃上...
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