技術(shù)編號(hào):3383066
提示:您尚未登錄,請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒(méi)有賬戶(hù)請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ,登陸完成后,請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本實(shí)用新型涉及光學(xué)鍍膜,特別特別是涉及到鍍膜時(shí)用的一種鍍膜夾具,尤其適合超薄基底的真空鍍膜。背景技術(shù)鍍膜技術(shù)通常是在真空條件下采用物理或化學(xué)方法,使物體表面獲得所需的膜體。當(dāng)今真空鍍膜技術(shù)及設(shè)備擁有十分寬泛的應(yīng)用領(lǐng)域,并且在未來(lái)也擁有十分廣闊的發(fā)展前景。真空鍍膜技術(shù)特別用在制造大規(guī)模集成電路的電學(xué)膜、數(shù)字式縱向與橫向均可磁化的數(shù)據(jù)紀(jì)錄儲(chǔ)存膜中。還用于制作能充分展示和應(yīng)用各種光學(xué)特性的光學(xué)膜、在計(jì)算機(jī)顯示用的感光膜、在TFT、PDP平面顯示器上的導(dǎo)電膜和增透...
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