技術(shù)編號:3383125
提示:您尚未登錄,請點 登 陸 后下載,如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ,登陸完成后,請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本實用新型涉及真空離子鍍膜,具體涉及一種LaB6空心陰極電子槍多功能離子鍍膜機。背景技術(shù)目前在真空離子鍍膜行業(yè)已有多弧與磁控濺射相組合的離子鍍膜機。現(xiàn)有的多弧與磁控濺射復合離子鍍膜機雖在一定程度上改善了膜層表面的粗糙度以及提高了表面的光亮度,但并沒有從根本上解決多弧離子鍍膜層中的液滴及大顆粒問題,并且磁控濺射離化率低,膜層與基片之間結(jié)合力差,在實際應(yīng)用方面存在許多須待改進的地方。實用新型內(nèi)容本實用新型針對現(xiàn)有技術(shù)的不足,提供一種可明顯減少和細化多弧離子鍍表...
注意:該技術(shù)已申請專利,請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出,在未取得專利權(quán)人授權(quán)前,僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識儲備,不適合論文引用。