技術(shù)編號：3385829
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本實用新型涉及一種鍍膜機，尤其涉及一種鍍膜機得真空度測量結(jié)構(gòu)。背景技術(shù)目前，鍍膜機真空室的真空度高低是直接影響所鍍制薄膜的質(zhì)量關(guān)鍵因素之一。 特別是精密度要求高的光學(xué)和電子元件的鍍膜，對鍍膜機真空室的真空度提出了更高的要求。因為只有在高真空度下，殘余氣體分子量少且不易和反應(yīng)氣體結(jié)合發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，分子的自由程大，因而能減低薄膜的非化學(xué)計量比的缺陷，使膜層結(jié)合得更牢固，從而提高薄膜的質(zhì)量，進而有利于提高各類光學(xué)元件和電子器件的可靠性。因此，鍍膜機真空室內(nèi)真空度...
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