技術編號：3387962
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本實用新型涉及一種粉體顆粒表面鍍膜工藝，具體涉及適用于動態(tài)磁控濺射鍍膜的真空鍍膜裝置。背景技術隨著科學技術的進步和新材料產(chǎn)業(yè)的迅速發(fā)展，人們對粉體性能的要求也相應不斷提高。通過物理、化學、機械等方法對粉體材料表面或界面進行處理，可以提高或者改變粉體材料的性能，滿足新材料、新工藝和新技術發(fā)展的需要。其中，表面鍍膜技術是應用最多的粉體表面處理技術。粉體顆粒表面鍍膜的方法主要有化學鍍、電鍍、真空濺射鍍、真空蒸鍍、化學氣相沉積和溶膠-凝膠法等。采用化學鍍、電鍍、溶...
注意：該技術已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權人授權前，僅供技術研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術人員進行技術研發(fā)參考以及查看自身技術是否侵權，增加技術思路，做技術知識儲備，不適合論文引用。