技術(shù)編號：3396944
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及用還原金屬還原鉭化合物制造高比表面積、低雜質(zhì)含量的電容器級鉭粉的方法。鉭粉的主要用途是用于制做鉭電容器。衡量鉭電容器質(zhì)量的指標(biāo)主要有工作電壓、電容量、漏電流。這些參數(shù)都是由鉭粉的性能及電容器制做工藝決定的。在一定的工作電壓下，電容器的容量與電容器陽極的比表面積成正比，即在一定的電容器制做工藝條件下，鉭粉的比表面積越大，制成的鉭電容器容量越高，也就是說，鉭粉的比表面積越大，其比容越高；鉭粉的比容越高，制成一定規(guī)格的電容器體積就越小，所用的鉭粉也就越...
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