技術(shù)編號：3396999
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明涉及借助陰極濺射工藝給大致平的片狀襯底鍍膜的裝置，此裝置帶有一個大約呈圓柱形的運送腔，運送腔由一個圓板形的蓋，一個在相對于蓋平行的平面內(nèi)延伸的底板和一個將此兩件耐壓并保持間距的，環(huán)形的，構(gòu)成運送腔側(cè)壁的殼體部分組成，此裝置還帶有一個聯(lián)接在運送腔上的真空泵，一個在運送腔的蓋上可由一塊板關(guān)閉、用于襯底的引入和導出的開口，帶有一個與蓋聯(lián)接，含有陰極，借助蓋上的開口與運送空間相通的鍍膜腔，帶有一個位于運送腔內(nèi)可回轉(zhuǎn)的襯底托盤。US 3,874,525專利說明...
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