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技術(shù)編號(hào)：3398181

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本發(fā)明涉及，屬微電子封裝。聚酰亞胺的金屬化方法通常是化學(xué)鍍、電鍍、物理氣相沉積，化學(xué)鍍和電鍍的速率低，需要采用活性貴金屬進(jìn)行活化，鍍液污染嚴(yán)重，需要后處理。物理氣相沉積的缺點(diǎn)是繞射性差，不利于臺(tái)階、通孔的金屬化。而普通的化學(xué)氣相沉積的溫度較高(大于400℃)，無(wú)法對(duì)聚酰亞胺基板進(jìn)行金屬化。T.Maruyama等[參見(jiàn)期刊Journal of Materials Science 30(1995)5551-5553]利用玻璃陶瓷做基片，研究乙酰丙酮銅的沉積理論...
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