技術(shù)編號：3406287
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明涉及一種檢測方法，尤其涉及集成電路制造中對垂直晶舟上大 量晶圓偵測的方法。背景技術(shù)在化學(xué)氣相沉積中，為進行150片或更多晶圓的批次量產(chǎn)，爐管內(nèi)晶 圓垂直密集地豎放于晶舟上，擺放在晶舟上的每片晶圓間隔一格。通常， 爐管的運行為批量生產(chǎn)方式， 一批150片晶圓被放置于垂直的晶舟上，然 后晶舟上升至反應(yīng)室進行工藝反應(yīng)?，F(xiàn)有技術(shù)中，在晶舟進入爐管前，并沒有機制方式或方法對晶圓在晶 舟上的位置正確與否進行確認，而是直接進入反應(yīng)室內(nèi)，如圖4所示。在 這種情況下，...
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該專利適合技術(shù)人員進行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。