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技術(shù)編號(hào)：3410830

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本發(fā)明涉及使規(guī)定頻率的電磁波透過并將其導(dǎo)向處理容器，生成等離子體以對(duì)被處理體進(jìn)行等離子體處理的等離子體處理裝置及其使用的滯波板。背景技術(shù)作為對(duì)半導(dǎo)體晶片等被處理體，進(jìn)行例如氧化處理和氮化處理、蝕刻處理、 CVD (Chemical Vapor D印osition，化學(xué)氣相沉積)處理等等離子體處理的等離子體處理裝置，已知有使用具有多個(gè)縫隙(slot，狹縫)的平面天線向處理容器內(nèi)導(dǎo)入微波來生成等離子體的縫隙天線方式的等離子體處理裝置。這樣的微波等離子體處理裝置...
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