技術(shù)編號:3413350
提示:您尚未登錄,請點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ,登陸完成后,請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及無機(jī)材料二氧化鈦/ 二氧化硅(Ti02/Si02)的制備,尤其是Ti02/Si02 復(fù)合薄膜的制備方法。背景技術(shù)二氧化鈦(TiO2)具有良好的光催化性和親水性能,并由于其化學(xué)穩(wěn)定性好、反應(yīng)活性高,成本低而受青睞。光催化TiO2材料可用于降解有機(jī)物、殺菌消毒、污水處理、空氣凈化、防霧玻璃、自清潔玻璃等方面,已成為環(huán)保納米材料研究開發(fā)的一個熱點(diǎn)。但是,純 TiO2表面暴露的活性位有限,在光催化降解過程中Ti02有效利用率受到限制。而采用Ti02/ S...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識儲備,不適合論文引用。