技術(shù)編號:3413603
提示:您尚未登錄,請點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ,登陸完成后,請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及半導(dǎo)體,特別涉及一種腔室裝置和具有該腔室裝置的基片處理設(shè)備。背景技術(shù)CVD(Chemical Vapor Deposition,化學(xué)氣相沉積)是一種用來產(chǎn)生純度高、性能好的固態(tài)材料的化學(xué)技術(shù)。CVD制作過程是將晶圓(基底)暴露在一種或多種不同的前驅(qū)物下,在一定工藝溫度下,在基底表面發(fā)生化學(xué)反應(yīng)和/或化學(xué)分解來產(chǎn)生欲沉積的薄膜。反應(yīng)過程中伴隨地產(chǎn)生不同的副產(chǎn)品大多會(huì)會(huì)隨著氣流被帶著,不會(huì)留在腔室中。根據(jù)不同的分類方法,CVD可以分為多種類型。例如,...
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