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將薄膜層連續(xù)地間接淀積在襯底上的氣相淀積設備和過程的制作方法技術資料下載

技術編號:3414114

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本文公開的主題大體涉及薄膜淀積過程的領域,其中,諸如半導體材料層的薄膜層淀積在襯底上。更具體而言,本主題涉及用于將光反應性材料的薄膜層淀積在光電(PV) 模塊形式的玻璃襯底上的氣相淀積設備和相關聯(lián)的過程。背景技術基于作為光反應性成分的與硫化鎘(CdS)配對的碲化鎘(CdTe)的薄膜光電(PV) 模塊(也稱為“太陽能板”)在工業(yè)中正獲得廣泛接受和關注。CdTe是具有特別適于將太陽能(太陽光)轉換成電的特性的半導體材料。例如,CdTe具有1. 45eV的能帶隙...
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