技術(shù)編號:3415231
提示:您尚未登錄,請點 登 陸 后下載,如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ,登陸完成后,請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明是有關(guān)于一種濺鍍設(shè)備,且特別是有關(guān)于一種連續(xù)式濺鍍設(shè)備以及使用此設(shè)備的太陽能選擇性吸收膜的制造方法。背景技術(shù)在1990年開始建立太陽能選擇性吸收膜的雙陶瓷合金層結(jié)構(gòu),即金屬-氮化鋁 (M-AlN)和金屬-氧化鋁(M-Al2O3),此為使用一種新型的雙靶材直流電磁控管電漿濺鍍技術(shù)(Novel two-target DC magnetron plasma sputtering technology)來制備太陽會邑選擇性吸收膜,可得到非常高的光熱轉(zhuǎn)換效率。...
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