技術(shù)編號：3415244
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及ー種鍍膜傘架。背景技術(shù)鏡片放進(jìn)真空的蒸鍍(Vapor Deposition)裝置進(jìn)行蒸鍍前容易附著灰塵,其中帶電的灰塵可能會影響靶材離子 附著于鍍膜表面，影響鍍膜質(zhì)量，而即使不帶電的灰塵可能被所鍍膜層覆蓋，也影響鍍膜質(zhì)量。發(fā)明內(nèi)容有鑒于此，有必要提供一種可提高鏡片鍍膜質(zhì)量的鍍膜傘架。ー種鍍膜傘架，包括ー個本體及至少ー個離子風(fēng)裝置。該本體包括ー個第一表面及ー個背對該第一表面的第二表面，該本體具有多個貫穿該第一表面及該第二表面的容料通孔，各容料通孔用...
注意：該技術(shù)已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。