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技術(shù)編號(hào)：3415649

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本發(fā)明涉及半導(dǎo)體制造領(lǐng)域，尤其涉及一種在晶圓的研磨過(guò)程中所利用到的拋光液的循環(huán)再利用的方法。背景技術(shù)在半導(dǎo)體制造過(guò)程中，需要反復(fù)的使用化學(xué)機(jī)械研磨(Chemical Mechanical Polishing，簡(jiǎn)稱CMP)工藝對(duì)晶圓進(jìn)行平坦化處理。如金屬間絕緣介質(zhì)(IMD)的平坦化，及用于鎢(W)的平坦化，隨后用于淺溝槽隔離(STI)和銅(Cu)的平坦化等。利用機(jī)械力對(duì)晶圓表面作用，在表面薄膜層產(chǎn)生斷裂腐蝕的動(dòng)力，而這部分必須籍由拋光液(或研磨液)中的化學(xué)物...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。

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