技術(shù)編號(hào):3415662
提示:您尚未登錄,請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒(méi)有賬戶(hù)請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ,登陸完成后,請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種薄膜形成裝置,具體涉及一種用于有機(jī)汽相沉積的薄膜形成裝置,其中源氣體與載運(yùn)氣體一起輸送至真空室中的基底表面。背景技術(shù) 通常通過(guò)真空蒸發(fā)形成用于有機(jī)EL顯示裝置或如有機(jī)半導(dǎo)體激光器之類(lèi)的低分子型有機(jī)EL發(fā)光裝置的有機(jī)薄膜。如圖7所示,用于真空蒸發(fā)的真空蒸發(fā)淀積裝置包括真空室51、設(shè)置在真空室51底部的蒸發(fā)源52、和在蒸發(fā)源52上方與其相對(duì)設(shè)置的基底座53。為了使用如上所述的裝置在基底S的表面上形成有機(jī)薄膜,將基底S安裝在基底座53上,使所述表面...
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