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技術(shù)編號(hào)：3415669

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本發(fā)明涉及通過(guò)半導(dǎo)體晶片用拋光墊的加工方法以及由該方法在拋光墊的拋光面上形成溝槽、凹部、通孔等的半導(dǎo)體晶片用拋光墊。更詳細(xì)地涉及在拋光面上形成環(huán)狀溝槽、格子狀溝槽、螺旋狀溝槽、多個(gè)凹部、通孔等用的半導(dǎo)體晶片用拋光墊的加工方法。由該方法制得的半導(dǎo)體晶片用拋光墊用于半導(dǎo)體晶片等的化學(xué)機(jī)械拋光(Chemical Mechanical Polishing)(以下也稱作“CMP”)。背景技術(shù) 在半導(dǎo)體晶片的CMP加工中經(jīng)常使用樹(shù)脂制成的拋光墊。為了保持CMP用漿液、...
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