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技術(shù)編號(hào)：3417825

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本發(fā)明涉及氮化鋁薄膜制備，具體涉及一種用原子層沉積設(shè)備制備氮化鋁薄膜的方法。背景技術(shù)氮化鋁(AlN)是一種性能優(yōu)良的寬能隙直接帶隙結(jié)構(gòu)的化合物半導(dǎo)體材料。具有擊穿電場(chǎng)高、熱導(dǎo)率高、電導(dǎo)率高和穩(wěn)定性高等特性。高質(zhì)量的氮化鋁還有極高的聲傳播速率、較小的聲波損耗和大壓電耦合常數(shù)，以及和Si想匹配的熱膨脹系數(shù)，電絕緣性好且無(wú)毒等特性。目前被廣泛的用于微電子、光學(xué)領(lǐng)域，在聲表面器件(SAW)制造領(lǐng)域有廣闊的應(yīng)用前景。SAW器件具有體積小、重量輕；工作時(shí)不需外加偏壓且...
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