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技術(shù)編號：3419113

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本發(fā)明涉及一種化學(xué)機(jī)械研磨(CMP)技術(shù)，尤其是涉及高效、具有成本效益的改進(jìn)CMP操作。背景技術(shù) 在半導(dǎo)體裝置的制造中，需要進(jìn)行化學(xué)機(jī)械研磨(CMP)操作。通常，集成電路裝置成多層結(jié)構(gòu)。在基質(zhì)層，形成具有擴(kuò)散區(qū)域的晶體管裝置。在隨后的層中，相互連接的金屬噴鍍線形成一定圖形，并與晶體管裝置電連接，以便確定合適的功能裝置。眾所周知，形成圖形的導(dǎo)體層通過電介質(zhì)材料例如二氧化硅而與其它導(dǎo)體層絕緣。當(dāng)形成更多金屬噴鍍層和相應(yīng)的電介質(zhì)層時，更加需要使電介質(zhì)材料平坦化(...
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