技術編號：3419598
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發(fā)明涉及熱蒸發(fā)制備薄膜的工藝，特別是一種在熱蒸發(fā)過程中可調(diào)沉 積速率的真空鍍膜機擋板。 背景技術真空熱蒸發(fā)鍍膜工藝包括沉積速率、真空度、基底溫度等多種工藝控制 方式，其中沉積速率控制主要決定了光學薄膜的聚集密度和厚度均勻性，對 膜厚的控制也有直接的影響。不同的沉積速率可使薄膜的光譜性能和機械性 能產(chǎn)生顯著的差異。不同的蒸發(fā)方式下，同樣的鍍膜材料的沉積速率可能存 在著很大的差別；同樣的蒸發(fā)方式，不同的鍍膜材料最適合的沉積速率也高 低有別。真空蒸發(fā)鍍膜機主要...
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