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利用非等向性濕蝕刻法來(lái)進(jìn)行平坦化的方法技術(shù)資料下載

技術(shù)編號(hào):3419801

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本發(fā)明涉及一種進(jìn)行平坦化的方法,且特別是關(guān)于一種。背景技術(shù) 在制造多重金屬內(nèi)聯(lián)機(jī)時(shí),通常兩層金屬線之間為了避免發(fā)生短路,彼此之間必須以絕緣材料加以隔離。但是因?yàn)榫砻娓叩推鸱欢?,所沉積的絕緣層也隨著晶片表面而起伏,此時(shí)表面平坦化就成為進(jìn)行下一層金屬線的光刻工藝是否能順利進(jìn)行的決定步驟了。因此在半導(dǎo)體制造技術(shù)中,表面平坦化是處理高密度光刻的一項(xiàng)重要技術(shù)。沒(méi)有高低落差的平坦表面,才能避免曝光散射的問(wèn)題,以進(jìn)行精密的導(dǎo)線圖案轉(zhuǎn)移(Pattern Transf...
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