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技術(shù)編號：3422869

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本發(fā)明提供一種化學(xué)機(jī)械拋光裝置的終點(diǎn)偵測系統(tǒng)，尤其涉及一種利用氣體流動系統(tǒng)排出水汽的終點(diǎn)偵測系統(tǒng)。背景技術(shù) 在現(xiàn)今的集成電路制造過程中，為避免造成后續(xù)工藝的不良影響，對于各沉積層表面的平坦化要求已成為日益重要的課題。就現(xiàn)有的平坦化技術(shù)而言，化學(xué)機(jī)械拋光(chemical mechanical polishing，CMP)可說是目前最為廣泛應(yīng)用的方法。所謂的CMP技術(shù)，即是同時(shí)利用一拋光裝置與一拋光劑(slurry)來去除半導(dǎo)體晶片上的不平坦處的過程。其原理...
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• 劉老師：非常規(guī)環(huán)境下二次電池關(guān)鍵材料與電化學(xué)機(jī)理，鋰/鈉離子電池，鋰-空氣電池關(guān)鍵材料，多孔合金電極材料，新型二次電池的設(shè)計(jì)與改性。
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