技術(shù)編號：3426136
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明屬于物理氣相沉積領(lǐng)域，涉及一種真空磁控濺射鍍膜設(shè)備。 背景技術(shù)在光電薄膜、半導體電子學用薄膜、表面裝飾等工業(yè)等領(lǐng)域的生產(chǎn)當中，利用真空 磁控濺射技術(shù)在塑料材料、金屬材料產(chǎn)品樣件或光學玻璃表面鍍制金屬、合金半導體、或金 屬化合物薄膜，以滿足某種特殊需要，如裝飾、導電、提高硬度強度等目的。其中針對裝飾工 業(yè)批量鍍膜，1992年美國5096562號專利提出的旋轉(zhuǎn)柱型磁控濺射靶結(jié)構(gòu)被廣泛應(yīng)用。但 在實際生產(chǎn)過程中，對于非規(guī)則形狀的產(chǎn)品基片，如手機外殼、手表殼...
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該專利適合技術(shù)人員進行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。