技術(shù)編號(hào)：3427642
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及用于化學(xué)氣相沉積的電弧等離子炬。 背景技術(shù)等離子炬是一種產(chǎn)生等離子體的裝置，根據(jù)原理的不同，可以分為射頻等離子 炬和電弧等離子炬兩種。本發(fā)明屬于電弧等離子炬。電弧等離子炬最早用于切割和 噴涂， 一般有一個(gè)陰極和一個(gè)陽極，用于氣相沉積的等離子炬多在此基礎(chǔ)上t艮而 來。為了增加炬的功率和擴(kuò)大沉積面積，進(jìn)行了多種改進(jìn)。中國專利93109966. 8、 日本專利07-085992拉長了陰極和陽極間的距離，通過提高弧壓來增大功率，但沉 積面積仍然較小。日本...
注意：該技術(shù)已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。