技術(shù)編號(hào):3439981
提示:您尚未登錄,請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ,登陸完成后,請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及石墨烯領(lǐng)域,具體為一種新的氧化石墨烯(GrapheneOxide,GO)還原制備石墨烯材料的方法,通過高效還原氧化石墨烯高效制備石墨烯材料。背景技術(shù)自2004年被發(fā)現(xiàn)以來,石墨烯(Graphene)作為一種新型碳材料備受關(guān)注。它是一種完全由Sp2雜化的碳原子構(gòu)成的厚度僅為單原子層的二維晶體材料,具有高透光性和導(dǎo)電性、高比表面積、高強(qiáng)度及柔韌性等優(yōu)異的性能,可望在高性能納電子器件、光電器件、 氣體傳感器、復(fù)合材料、場(chǎng)發(fā)射材料及能量存儲(chǔ)等領(lǐng)域獲得廣泛...
注意:該技術(shù)已申請(qǐng)專利,請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出,在未取得專利權(quán)人授權(quán)前,僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備,不適合論文引用。