技術(shù)編號(hào):3450380
提示:您尚未登錄,請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ,登陸完成后,請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及取向硅鋼片制造領(lǐng)域,具體為。背景技術(shù)取向硅鋼片在制造過程中,為了增加鋼板中二氧化硅與硅鋼氧化鎂的合成反應(yīng)速 度,提高底層絕緣膜層硅酸鎂的附著力及電磁性能。目前國(guó)內(nèi)外取向硅鋼片制造廠家普遍 采用硼助劑,硼離子能抑制取向硅鋼片中鐵原子的導(dǎo)電,進(jìn)而提高硅鋼片的絕緣電阻、電磁 性能,能有效降低硅鋼片中二氧化硅與硅鋼級(jí)氧化鎂高溫合成硅酸鎂絕緣膜層的熔點(diǎn),能 與有害離子如鈉離子反應(yīng)生成揮發(fā)性鹽類。目前,硼的引入為兩種類型一為硅鋼氧化鎂中 自身含有的硼含量,二...
注意:該技術(shù)已申請(qǐng)專利,請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出,在未取得專利權(quán)人授權(quán)前,僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備,不適合論文引用。